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高低溫循環(huán)裝置主要應(yīng)用于：高壓反應(yīng)釜、中試生產(chǎn)不銹鋼反應(yīng)釜、雙層玻璃反應(yīng)釜、夾套反應(yīng)釜、微通道反應(yīng)器、反應(yīng)裝置、組合化學(xué)等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設(shè)備中，該系列可提供 -80℃~+250℃的溫度控制范圍，特殊可升級高溫至300℃，特別適用于快速放熱和吸熱的化學(xué)反應(yīng)試驗。

制冷加熱控溫系統(tǒng)在實驗室精確控溫方面所展現(xiàn)出的關(guān)鍵技術(shù)主要包括了高精度的PID溫控算法、高性能的制冷與加熱組件、絕熱技術(shù)和智能遠程控制功能。

半導(dǎo)體溫控系統(tǒng)主要由加熱循環(huán)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、箱體等組成。加熱循環(huán)系統(tǒng)包括循環(huán)泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環(huán)管道等組成。冷卻系統(tǒng)包括油水換熱器、油油換熱器（部分設(shè)備）、冷卻水電磁閥、高溫電磁閥等組成。控制系統(tǒng)采用PID控制技術(shù)，高清顯示屏，設(shè)有多項保護功能，確保設(shè)備安全運行。通過機組自身的加熱與冷卻，向外界輸送載熱流體，滿足工藝條件要求。

TCU溫度控制系統(tǒng)是一種集成了溫度傳感器、控制器和加熱/冷卻裝置的設(shè)備。它通過監(jiān)測環(huán)境溫度并根據(jù)預(yù)設(shè)的溫度設(shè)定值自動調(diào)節(jié)加熱或冷卻裝置，以達到所需的溫度控制目標。

　高低溫一體循環(huán)機結(jié)合了高低溫控制技術(shù)與循環(huán)技術(shù)，能夠在溫度條件下，提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境，并且可以實時控制和調(diào)整溫度。這一設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、化學(xué)物理等領(lǐng)域，為科研人員提供了有力的實驗條件支持。

晶圓生產(chǎn)完成后，需要對其進行各種參數(shù)的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設(shè)備（晶圓測試溫控系統(tǒng)）是高精度，高分辨率，高穩(wěn)定性的控制設(shè)備。

高低溫循環(huán)溫控系統(tǒng)，高低溫循環(huán)系統(tǒng)主要由加熱循環(huán)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、箱體等組成。加熱循環(huán)系統(tǒng)包括循環(huán)泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環(huán)管道等組成。